Компания Rapidus успешно начала установку системы EUV-литографии Twinscan NXE:3800E компании ASML на своем предприятии Innovative Integration for Manufacturing (IIM-1) в Читосе (Хоккайдо), что стало важной вехой для японской полупроводниковой промышленности. В 2025 году этот инструмент будет использоваться для изготовления прототипов чипов по 2-нм технологическому процессу, а затем для коммерческого производства полупроводников, начиная с 2027 года... Читать далее
Все новости:
teh.mmgp.com
105311
Загрузка...