Россия планирует использовать инструменты для производства чипов EUV, которые, по ее словам, будут дешевле и проще в производстве, чем ASML


Россия представила дорожную карту по разработке собственных литографических машин, цель которой - создать менее дорогостоящее и сложное оборудование, чем системы ASML, сообщает CNews. В этих машинах будут использоваться лазеры, работающие на длине волны 11,2 нанометра вместо стандартных 13,5 нм, используемых ASML. Такая длина волны будет несовместима с существующей инфраструктурой EUV и потребует от России разработки собственной экосистемы литографии, что... Читать далее